GaN-FETs im PQFN-Gehäuse

Die GaN-FETs von EPC bieten eine außergewöhnliche Leistung bei kompakten Abmessungen und sind ideal für die Leistungswandlung mit hoher Dichte

Abbildung: GaN-FETs im PQFN-Gehäuse von EPCDie Galliumnitrid-(GaN)-FETs im PQFN-Gehäuse von EPC bieten eine außergewöhnliche Leistung bei kompakten Abmessungen und sind ideal für die Leistungswandlung mit hoher Dichte. Diese Komponenten bieten einen extrem niedrigen Durchlasswiderstand, eine geringe Gate-Ladung und minimale Schaltverluste, wodurch sie eine höhere Effizienz und schnellere Schaltgeschwindigkeiten als herkömmliche Silizium-MOSFETs ermöglichen.

Mit Nennspannungen von bis zu 200 V und Impulsstromfähigkeiten von teilweise über 400 A eignen sich diese GaN-FETs perfekt für anspruchsvolle Anwendungen wie Motorantriebe, Robotik und Hochleistungsrechner.

Merkmale/Funktionen
  • Kostengünstig
  • Höhere Leistung als ein MOSFET
    • Schneller
    • Kleiner
    • Höhere Stromstärke
  • Benutzerfreundlichkeit
    • Kompatibilität der Bauform maximiert die Designflexibilität
  • Ausgezeichnete thermische Eigenschaften
    • Freiliegende Oberseite
    • Extrem niedriger Wärmewiderstand
Anwendungen/Zielmärkte
  • AC/DC-Ladegeräte
  • Hochfrequenz-DC/DC-Wandler
  • Motorantriebe
  • Kontinuierliche Leistungsmaximierung (MPPT) bei Solarmodulen
  • Klasse-D-Audio

GaN FETs in PQFN Packages

AbbildungHersteller-TeilenummerBeschreibungFET-TypTechnologieDrain-Source-Spannung (Vdss)Verfügbare MengePreisDetails anzeigen
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Veröffentlicht: 2025-04-10